特許
J-GLOBAL ID：200903069548632990
皮膜の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉村 暁秀 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-246516
公開番号（公開出願番号）：特開平5-214545
出願日： 1992年09月16日
公開日（公表日）： 1993年08月24日
要約：
【要約】【目的】 本発明の目的は、簡単で再現性のある二酸化ケイ素皮膜の製造方法を提供することである。【構成】 本発明は、アルコキシシラン化合物の加水分解により二酸化ケイ素の層を形成して基板1上に皮膜2を製造するにあたり、前記アルコキシシラン化合物の水溶液を基板1に塗布し、次いでより高い温度で処理することにより二酸化ケイ素層を形成することを特徴とする皮膜の製造方法である。
請求項（抜粋）：
アルコキシシラン化合物の加水分解により二酸化ケイ素の層を形成して基板上に皮膜を製造するにあたり、前記アルコキシシラン化合物の水溶液を基板に塗布し、次いでより高い温度で処理することにより二酸化ケイ素層を形成することを特徴とする皮膜の製造方法。
IPC (3件)：
C23C 18/12
, B05D 7/24 302
, C01B 33/113
