特許

J-GLOBAL ID：200903069566758020

複合積層トランス及びその製造方法

発明者： 後 外茂昭
出願人/特許権者： 株式会社村田製作所
代理人 (1件)： 町田 袈裟治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-045940
公開番号（公開出願番号）：特開平5-217772
出願日： 1992年01月31日
公開日（公表日）： 1993年08月27日
要約：

【要約】【目的】 絶縁耐力が高く、かつ結合係数の大きい積層トランスの構造及びその製造方法を提供する。【構成】 電極が形成された非磁性体グリーンシートを積層し、非磁性体層と電極層の交互積層体よりコイル形成部を形成し、該コイル形成部を磁性体グリーンシートからなる磁性体層で挟み、前記非磁性体層と磁性体層を圧着して焼結一体化してなるとともに、前記コイル形成部のコイルを磁性体で取り囲んで閉磁路を形成していることを特徴とする複合積層トランス。また、その製造方法は、非磁性体グリーンシートに帯状に巻いた電極を複数組分形成し、該非磁性体グリーンシートを積層して非磁性体層と電極の交互積層体よりなるコイル形成部を形成するとともに、前記非磁性体グリーンシートを挟んで磁性体グリーンシートを積層して積層体を形成し、該積層体を圧着し、さらに前記コイル形成部の中央部及び側面部に磁性体部を形成した後、焼結して一体化することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

電極が形成された非磁性体グリーンシートを積層し、非磁性体層と電極層の交互積層体よりコイル形成部を形成し、該コイル形成部を磁性体グリーンシートからなる磁性体層で挟み、前記非磁性体層と磁性体層を圧着して焼結一体化してなるとともに、前記コイル形成部のコイルを磁性体で取り囲んで閉磁路を形成していることを特徴とする複合積層トランス。

IPC (4件)：

H01F 31/00 ,  H01F 27/28 ,  H01F 41/04 ,  H01F 10/08