特許

J-GLOBAL ID：200903069573130834

新規のポリマーとそれを適用したフォトレジスト組成物

発明者： ティモシー・ジー・アダムズ ,  マシュー・エー・キング ,  ジョージ・ジー・バークレー ,  エイミー・エム・クォック ,  ズィビアオ・マオ ,  ロジャー エフ・シンタ
出願人/特許権者： シップレーカンパニー エル エル シー
代理人 (1件)： 佐伯 憲生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-115332
公開番号（公開出願番号）：特開2000-267286
出願日： 1999年03月19日
公開日（公表日）： 2000年09月29日
要約：

【要約】【課題】 高性能な実用化においても問題なく適用できるような、カルボキシ基および/またはカルボキシルの前駆体となる基を含む新規のポリマーを提供すること、およびそのようなポリマーをフォトレジスト組成物として使用すること。【解決手段】 本発明のポリマーは、側基としてのカルボキシルもしくはカルボキシルの前駆体となる基を含み、この基は、前記ポリマーの主鎖に直接結合せずに主鎖との間に1つもしくはそれより多くのケト基以外の原子を介する。

請求項（抜粋）：

光活性成分とポリマーを含むフォトレジスト組成物において、前記ポリマーが側基としてのカルボキシルもしくはカルボキシルの前駆体となる基を含み、この基は、前記ポリマーの主鎖に直接結合せずに主鎖との間に1つもしくはそれより多くのケト基以外の原子を介することを含む、フォトレジスト組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (15件)：

2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AC03 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CB43 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17