特許

J-GLOBAL ID：200903069590377150

ウェッジプリズムの照射位置制御方法および装置

発明者： 高木 博
出願人/特許権者： 三菱プレシジョン株式会社
代理人 (1件)： 石川 泰男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-270194
公開番号（公開出願番号）：特開2001-091891
出願日： 1999年09月24日
公開日（公表日）： 2001年04月06日
要約：

【要約】【課題】 ウェッジプリズムの特性を考慮して、ウェッジプリズムによって偏向された光の照射位置を、受光器の中心に確実にもっていくことができるウェッジプリズムの照射位置制御方法を提供する。【解決手段】 ウェッジプリズムの照射位置制御方法に、一対のウェッジプリズム1,2の差角Δψを一定に保ったまま一対のウェッジプリズム1,2を回転する工程(S4)と、差角Δψを変化する工程(S5)とを組み込む。一対のウェッジプリズム1,2の差角Δψを一定に保ったまま回転すると、照射位置Qは円状の軌跡を描くので、照射位置Qおよび受光器7の中心Oとの平面極座標の角度を一致することができる。また、差角を変化することで、受光器7の中心Oからの照射位置Qまでの距離を小さくすることができる。

請求項（抜粋）：

一対のウェッジプリズムの回転角度を操作して、この一対のウェッジプリズムによって偏向された光の照射位置を制御するウェッジプリズムの照射位置制御方法であって、前記一対のウェッジプリズムの差角を一定に保ったまま前記一対のウェッジプリズムを回転する工程と、前記差角を変化する工程と、を備えることを特徴とするウェッジプリズムの照射位置制御方法。

IPC (2件)：

G02B 26/10 108 ,  G01B 11/00

FI (2件)：

G02B 26/10 108 ,  G01B 11/00 C

Fターム (17件)：

2F065AA09 ,  2F065AA17 ,  2F065AA19 ,  2F065FF11 ,  2F065FF15 ,  2F065FF23 ,  2F065FF65 ,  2F065GG04 ,  2F065HH04 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL47 ,  2F065NN20 ,  2F065QQ23 ,  2H045AF14 ,  2H045BA15 ,  2H045DA31

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭64-038717
  
• 特開昭63-169614