特許
J-GLOBAL ID：200903069598422058
サンドブラスト方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-250239
公開番号（公開出願番号）：特開平11-090827
出願日： 1997年09月16日
公開日（公表日）： 1999年04月06日
要約：
【要約】【課題】 本発明は、プラズマディスプレイパネルの隔壁などを形成するサンドブラスト方法に関し、微細パターンを形成することが可能となるサンドブラスト方法を提供することを目的としている。【解決手段】 研削領域を画定するマスクを介して、被処理体に切削粒子を吹き付けることにより、前記研削領域を研削除去して、非研削領域に構造体を形成するサンドブラスト方法において、前記切削粒子に対する耐久性を有する上層マスク6aと、該上層マスク6aに対して幅の狭い下層マスク5aとからなる多層マスクを介して前記被処理体4に切削粒子を吹き付ける構成としている。
請求項（抜粋）：
研削領域を画定するマスクを介して、被処理体に切削粒子を吹き付けることにより、前記研削領域を研削除去して、非研削領域に構造体を形成するサンドブラスト方法において、前記切削粒子に対する耐久性を有する上層マスクと、該上層マスクに対して幅の狭い下層マスクとからなる多層マスクを介して前記被処理体に切削粒子を吹きつけることを特徴とするサンドブラスト方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
B24C 1/04 C
, H01J 9/02 F
