特許
J-GLOBAL ID：200903069604579916

感光性組成物、該感光性組成物に用いられる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法

発明者：
児玉 邦彦

児玉 邦彦 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-124124
公開番号（公開出願番号）：特開2005-308969
出願日： 2004年04月20日
公開日（公表日）： 2005年11月04日
要約：
【課題】 IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法であり、露光ラチチュード、ラインエッジラフネスが改善された感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】 特定構造のスルホニウム塩を含有する感光性組成物、特定構造のスルホニウム塩及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法。
請求項（抜粋）：
(A)下記一般式(I)で表されるスルホニウム塩を含有することを特徴とする感光性組成物。
IPC (2件)：
G03F7/004 ,  H01L21/027
FI (2件)：
G03F7/004 503A ,  H01L21/30 502R
Fターム (16件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17
引用特許：
出願人引用 (4件)
  • 化学増幅型ポジ型レジスト組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-315265   出願人：住友化学工業株式会社
  • 感放射線性樹脂組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-219125   出願人：日本合成ゴム株式会社
  • 国際公開第02/19033号パンフレット
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審査官引用 (2件)
  • レジスト組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-110738   出願人：富士写真フイルム株式会社
  • 特開昭51-056885

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