特許
J-GLOBAL ID：200903069620291370
真空成膜装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-050898
公開番号（公開出願番号）：特開平6-267858
出願日： 1993年03月11日
公開日（公表日）： 1994年09月22日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、真空成膜装置のダウンタイムの短縮を目標として、真空をやぶることなく迅速に真空室内部材を交換することを目的とする。【構成】 成膜室の近隣に、成膜室内の基板以外の部材を真空中で交換し、処理するための異なる機能を有する室を2つ以上持つことを特徴とする成膜装置である。
請求項（抜粋）：
真空槽内で成膜を行う真空成膜装置において、成膜室の近隣に成膜室内の基板以外の部材を真空中で交換し、処理するための異なる機能を有する室を2つ以上持つことを特徴とする成膜装置。
IPC (2件)：
H01L 21/205
, H01L 21/203
