特許

J-GLOBAL ID：200903069628375394

パージ機能性材料、成型機清浄用樹脂組成物及び成型機清浄方法

発明者： 浜中 博義
出願人/特許権者： 浜中 博義
代理人 (1件)： 石原 詔二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-118339
公開番号（公開出願番号）：特開2004-322407
出願日： 2003年04月23日
公開日（公表日）： 2004年11月18日
要約：

【課題】プラスチック、ゴム成型における成型機内の前加工物残渣を排除させる移行作用に加えて、界面活性作用を働かせ、成型機に経時的に固着してくる無機物及び有機物由来の汚染物や成型機自体の腐食変化部分をも剥離、除去する能力を有するパージ機能性材料及びそれを含有させてなる成型機清浄用樹脂組成物、並びにそれらを用いた成型機清浄方法を提供する。【解決手段】所定の有機ホウ素化合物の1種以上及び/又は前記所定の有機ホウ素化合物の1種以上と塩基性窒素を最小限1個有する窒素化合物の1種以上との反応物よりなることを特徴とするパージ機能性材料である。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

下記構造式(1)にて表わされる原子団を有する半極性有機ホウ素化合物(以下、所定の有機ホウ素化合物と称する)の1種以上及び/又は前記所定の有機ホウ素化合物の1種以上と塩基性窒素を最小限1個有する窒素化合物の1種以上との反応物よりなることを特徴とするパージ機能性材料。

IPC (4件)：

B29C47/08 ,  B29C33/72 ,  C08K5/55 ,  C08L101/00

FI (4件)：

B29C47/08 ,  B29C33/72 ,  C08K5/55 ,  C08L101/00

Fターム (26件)：

4F202AA04 ,  4F202AA45 ,  4F202AM10 ,  4F202CA30 ,  4F202CS02 ,  4F207AA04 ,  4F207AA45 ,  4F207AM10 ,  4F207KA01 ,  4F207KA17 ,  4F207KJ06 ,  4F207KM20 ,  4F207KM28 ,  4J002BB031 ,  4J002BB101 ,  4J002BB121 ,  4J002BC031 ,  4J002BD041 ,  4J002BF021 ,  4J002BG041 ,  4J002BG051 ,  4J002CF001 ,  4J002CL001 ,  4J002CQ022 ,  4J002EY016 ,  4J002GT00