特許

J-GLOBAL ID：200903069632651339

石英上のリンを含有するシリコン酸化膜の除去方法

発明者： 渡部 正行 ,  辺見 治夫
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-223285
公開番号（公開出願番号）：特開平8-088221
出願日： 1994年09月19日
公開日（公表日）： 1996年04月02日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 半導体ウエ-ハプロセス製造工程で用いられる石英管、石英バスケット、石英ステージ等各種石英製品の表面にプロセス中に堆積したリンを含有するシリコン酸化膜の除去方法に関し、その除去が効率良く行なえる手段を提供し、石英製品の長寿命化を図る。【構成】 石英1上に堆積したリンを含有するシリコン酸化膜2を加熱して、赤燐が析出した着色層3を形成し、該着色層をブラスト法にて研磨除去する。

請求項（抜粋）：

石英上に堆積したリンを含有するシリコン酸化膜を加熱して、赤燐が析出した着色層を形成し、該着色層をブラスト法にて研磨除去することを特徴とする石英上のリンを含有するシリコン酸化膜の除去方法。

IPC (3件)：

H01L 21/31 ,  H01L 21/304 321 ,  H01L 21/304