特許

J-GLOBAL ID：200903069633913787

プラズマ生成装置及びプラズマ処理方法

発明者： 山華 雅司 ,  寺井 藤雄
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 外川 英明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-216205
公開番号（公開出願番号）：特開2003-031558
出願日： 2001年07月17日
公開日（公表日）： 2003年01月31日
要約：

【要約】【課題】プラズマを生成する容器の窓の削れ量を低減し、窓の長寿命化及びチャンバ内におけるダスト発生を抑制することができるブラズマ生成装置を提供すること。【解決手段】チャンバ21の壁面に形成され、誘電体又は半導体からなる窓部24と、窓部24の外面に沿って配置された負荷部30と、負荷部30に電力を供給する電源26aとを備え、負荷部30は、導体線路32とコンデンサ33とが直列接続された電気回路要素31が複数組み合わされて形成されている。

請求項（抜粋）：

容器内に誘導電界を発生させることによりプラズマを生成するプラズマ生成装置において、前記容器の一部に形成された誘電体又は半導体からなる窓部と、前記窓部の外方に配置された負荷部と、この負荷部に電力を供給する電力供給部とを備え、前記負荷部は、導体線路とコンデンサとが直列接続された電気回路要素が複数組み合わされて形成されており、前記導体線路と前記窓部との距離は、前記導体線路の電圧振幅の大きさに基づいて決められていることを特徴とするプラズマ生成装置。

IPC (4件)：

H01L 21/3065 ,  B01J 19/08 ,  C23C 16/507 ,  H05H 1/46

FI (5件)：

B01J 19/08 H ,  C23C 16/507 ,  H05H 1/46 L ,  H05H 1/46 R ,  H01L 21/302 B

Fターム (28件)：

4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075BC02 ,  4G075BC04 ,  4G075BC06 ,  4G075CA25 ,  4G075CA47 ,  4G075DA02 ,  4G075EB01 ,  4G075FC11 ,  4G075FC13 ,  4G075FC15 ,  4G075FC20 ,  4K030CA04 ,  4K030FA03 ,  4K030KA14 ,  4K030KA30 ,  4K030LA15 ,  4K030LA18 ,  5F004AA01 ,  5F004BA20 ,  5F004BB11 ,  5F004BD01 ,  5F004BD04 ,  5F004BD05 ,  5F004CA03 ,  5F004DA23 ,  5F004DB03