特許
J-GLOBAL ID：200903069639732172
アクティブマトリクス基板の製造方法および液晶表示装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鵜沼 辰之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-013364
公開番号（公開出願番号）：特開平5-203987
出願日： 1992年01月28日
公開日（公表日）： 1993年08月13日
要約：
【要約】【目的】 アクティブマトリクス基板の製造に用いるホトマスク数を削減し、液晶表示装置の画質を向上させることにある。【構成】 不透明な部材からなる配線電極2、4及びスイッチング素子8をホトマスクとして基板裏面からホトレジスト10を露光し、スイッチング素子8の保護膜9をパターニングする。この方法により、ホトマスクが不要と成りかつ保護膜9の段差部分を透明画素電極7の外側に形成することができるため、対向基板のブラックマトリクスを拡大することなく液晶の配向不良を視認できなくすることができる。また、不要部分の保護膜を除去できるため、残像を低減し、表示画質を大幅に向上させることができる。
請求項（抜粋）：
透明基板上に配置した不透明部材と透明部材を被覆する保護膜上にホトレジストを形成し、該ホトレジストにホトマスクを介して露光した後現像剤により露光された部分のホトレジストを除去し、該ホトレジストが除去された部分の保護膜を除去し、露光されないホトレジストを除去しその部分にのみ保護膜を残す基板の製造方法において、前記ホトマスクによる露光に代わり前記透明基板側から前記透明部材を透過させて前記ホトレジストに露光することを特徴とする基板の製造方法。
IPC (5件)：
G02F 1/136 500
, G02F 1/1343
, G09F 9/30 338
, H01L 27/12
, H01L 29/784
