特許

J-GLOBAL ID：200903069655394279

処理装置

発明者： 坂本 泰大
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社 ,  東京エレクトロン九州株式会社
代理人 (1件)： 浅井 章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-315403
公開番号（公開出願番号）：特開平5-129174
出願日： 1991年11月02日
公開日（公表日）： 1993年05月25日
要約：

【要約】【目的】 各処理ユニットの上方に少なくとも電装部品を収容するための収納部を設けてその排熱を特別の通路で排出する。【構成】 被処理体Wを処理するコータユニット8、現像ユニット10、熱処理ユニット14などの処理ユニット群を並設し、この上方に支柱32を介して収納部30を設け、この収納部30内に発熱を伴う電装部品46を収容する。そして、この内部を通過した清浄空気が上記処理ユニット群に当たらないようにするために温風の清浄空気を集めて排気する排気通路50を形成する。これにより、安全性を向上させつつ従来の外置物を装置内へ収容するためのスペースを確保する。

請求項（抜粋）：

被処理体を処理する処理ユニットと、前記処理ユニットの上方に配置され、少なくとも前記処理ユニットに関する電装部品を収納する収納部と、前記収納部を通過した空気が前記処理ユニットに流れることを阻止するために前記収納部を通過した空気を排気する排気通路とを有するように構成したことを特徴とする処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/02 ,  H01L 21/027 ,  H05K 7/20

FI (4件)：

H01L 21/30 301 H ,  H01L 21/30 301 J ,  H01L 21/30 361 C ,  H01L 21/30 361 L