特許
J-GLOBAL ID：200903069672803301
プラズマ処理装置の試料保持方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高田 幸彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-050782
公開番号（公開出願番号）：特開平8-153713
出願日： 1983年11月28日
公開日（公表日）： 1996年06月11日
要約：
【要約】【目的】真空処理される試料をいためたり、基板内の素子ダメージを与えないでかつ、搬送に時間を要しない、プラズマ処理装置の試料保持方法を提供する。【構成】プラズマ処理する試料を、真空処理室10内の試料台への直流電圧印加により静電吸着・保持し、この試料50の裏面に試料台との間の伝熱用ガスを供給し、真空処理室に高周波電力を印加して処理ガスをプラスマ化し、該プラスマにより試料の処理を行い、プラズマ処理の終了に伴い、伝熱用ガスの供給停止及び静電吸着のための直流電圧の印加を停止した後、プラズマ発生用の高周波電力の印加を停止する。【効果】伝熱ガスの圧力による試料の飛び跳ねを生じさせることなく、試料に残っている静電吸着力の解除もでき、試料台からの試料の離脱も容易になり試料の搬送が容易に行える。
請求項（抜粋）：
プラズマ処理する試料を、真空処理室内の試料台への直流電圧印加により静電吸着・保持し、該吸着保持した前記試料の裏面に前記試料台との間の伝熱用ガスを供給し、前記真空処理室に高周波電力を印加して処理ガスをプラスマ化し、該プラスマにより試料の処理を行い、該プラズマ処理の終了に伴い、前記伝熱用ガスの供給停止及び前記静電吸着のための直流電圧の印加を停止した後、前記プラズマ発生用の高周波電力の印加を停止することを特徴とするプラズマ処理装置の試料保持方法。
IPC (6件)：
H01L 21/3065
, B01J 3/00
, B01J 19/08
, C23F 4/00
, H01L 21/68
, H05H 1/46
