特許
J-GLOBAL ID：200903069677724400
層間絶縁膜形成用塗布液およびこれを用いた層間絶縁膜形成方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
渡辺 望稔 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-028253
公開番号（公開出願番号）：特開平6-244171
出願日： 1993年02月17日
公開日（公表日）： 1994年09月02日
要約：
【要約】【目的】400°C以下の低温で、完全平坦な層間絶縁膜を形成する塗布液および形成する方法の提供。【構成】20°Cで蒸気圧が1mmHg以下の溶媒に重量平均分子量20000以下のシロキサン結合を有するオリゴマーが溶解している層間絶縁膜形成用塗布液。上記塗布液を基板上に回転塗布し、溶媒の沸点以下の温度で乾燥後、300°C以上400°C以下の温度に保持することを特徴とする層間絶縁膜形成方法。
請求項（抜粋）：
20°Cで蒸気圧が1mmHg以下の溶媒に重量平均分子量20000以下のシロキサン結合を有するオリゴマーが溶解している層間絶縁膜形成用塗布液。
IPC (5件)：
H01L 21/312
, B05D 1/40
, C09D183/04 PMS
, H01L 21/3205
, H01L 21/90
