特許

J-GLOBAL ID：200903069681236843

ビス(フェニルチオ)ベンゼン類の製造方法

発明者： 築地原 有作 ,  飯田 幸生
出願人/特許権者： 住友精化株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-117339
公開番号（公開出願番号）：特開2001-302615
出願日： 2000年04月19日
公開日（公表日）： 2001年10月31日
要約：

【要約】【課題】 ビス(フェニルチオ)ベンゼン類を工業的に安価に製造する方法、ならびに反応液中の未反応のチオフェノールを無臭化処理することにより、チオフェノール臭のないビス(フェニルチオ)ベンゼン類を製造する方法を提供すること。【解決手段】 下記一般式(1);(式中、X1、X2は、それぞれ独立してハロゲン原子を示す。)で表されるジハロベンゼン類と、下記式(2);で表されるチオフェノールとを、アルカリ金属水酸化物の水溶液中で反応させることを特徴とする下記一般式(3);で表されるビス(フェニルチオ)ベンゼン類の製造方法、ならびにジハロベンゼン類とチオフェノールとをアルカリ金属水酸化物の水溶液中で反応させた後、反応液中の未反応のチオフェノールをハロゲン化アルキルと反応させてアルキルフェニルスルフィド誘導体として無臭化処理するビス(フェニルチオ)ベンゼン類の製造方法。

請求項（抜粋）：

下記一般式(1);【化1】(式中、X1、X2は、それぞれ独立してハロゲン原子を示す。)で表されるジハロベンゼン類と、下記式(2);【化2】で表されるチオフェノールとを、アルカリ金属水酸化物の水溶液中で反応させることを特徴とする下記一般式(3);【化3】で表されるビス(フェニルチオ)ベンゼン類の製造方法。

IPC (4件)：

C07C319/14 ,  B01J 23/04 ,  C07C321/30 ,  C07B 61/00 300

FI (4件)：

C07C319/14 ,  B01J 23/04 X ,  C07C321/30 ,  C07B 61/00 300

Fターム (13件)：

4H006AA02 ,  4H006AC63 ,  4H006AD30 ,  4H006BA01 ,  4H006BA29 ,  4H006BB31 ,  4H006BC11 ,  4H006TA04 ,  4H006TB14 ,  4H006TB72 ,  4H039CA61 ,  4H039CD10 ,  4H039CD20