特許
J-GLOBAL ID：200903069689000024
露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
立石 篤司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-342550
公開番号（公開出願番号）：特開平10-172900
出願日： 1996年12月06日
公開日（公表日）： 1998年06月26日
要約：
【要約】【課題】 スループットを高く維持するとともに、感光基板表面に異物等が付着した場合にも重ね合わせ精度を高精度に維持する。【解決手段】 センサユニット16内には、ウエハW上のアライメントマークと同等の検出領域を持つアライメントセンサ及びこの領域に光束を照射して該領域のフォーカスずれを検出するフォーカスセンサが内蔵されている。そして、センサユニット16により、アライメントマークの検出に際しフォーカスずれを計測し、主制御装置24では、フォーカスずれが所定範囲内のマーク位置の計測結果のみを用いていわゆるEGAによりウエハW上のショット配列を演算し、この配列に基づいてショット領域の露光位置への位置決めを行ないながら、レチクルパターンを露光する。
請求項（抜粋）：
感光基板を所定の露光位置に順次位置決めしつつ、マスクに形成されたパターンの像を投影光学系を介して前記感光基板上の複数のショット領域に順次露光する露光装置であって、前記感光基板上の各ショット領域に付設された位置合わせ用マーク領域と同程度の検出領域を有し、前記検出領域内に位置する位置合わせ用マークの位置を検出するマーク位置検出手段と;前記検出領域に光ビームを照射しその反射光を受光することにより、その領域の合焦面に対するずれを検出するとともに、そのずれ量に基づいて前記感光基板の光軸方向の位置を調整する合焦手段と;前記合焦手段で検出されたずれ量が所定範囲内にある、前記マーク検出手段により合焦状態にて検出された位置合わせ用マークの位置の検出結果のみを用い、当該検出結果と設計上のショット領域の配列データとに基づいて前記感光基板上の前記複数ショット領域の配列を最小自乗法を用いた統計処理により演算する演算手段とを有する露光装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L 21/30 525 E
, G03F 9/00 H
, H01L 21/30 525 R
