低反射性導電膜の形成方法

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-307577
公開番号（公開出願番号）：特開2000-153223
出願日： 1997年08月12日
公開日（公表日）： 2000年06月06日
要約：

【要約】【課題】低温熱処理により形成が可能な低反射性導電膜の形成方法の提供。【解決手段】Ruの金属微粒子のゾルを含有してなる導電膜形成用塗布液を基体上に塗布して塗膜を形成した後、塗膜上に前記導電膜より低屈折率の膜を形成することを特徴とする低反射性導電膜の形成方法。

請求項（抜粋）：

Ruの金属微粒子のゾルを含有してなる導電膜形成用塗布液を基体上に塗布して塗膜を形成した後、塗膜上に前記導電膜より低屈折率の膜を形成することを特徴とする低反射性導電膜の形成方法。

IPC (6件)：

B05D 5/06 , B05D 5/12 , C09D 5/24 , G02B 1/10 , H01J 9/20 , C03C 17/36

FI (6件)：

B05D 5/06 Z , B05D 5/12 B , C09D 5/24 , H01J 9/20 A , C03C 17/36 , G02B 1/10 Z

引用特許：

審査官引用 (3件)

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