特許
J-GLOBAL ID：200903069698197442
ドライプロセス装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
石戸 元
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平1-298694
公開番号（公開出願番号）：特開平6-025874
出願日： 1989年11月15日
公開日（公表日）： 1994年02月01日
要約：
【要約】 電子出願以前の出願であるので要約・選択図及び出願人の識別番号は存在しない。
請求項（抜粋）：
2種類の極性の電極(21,22)を相向い合わせて交互に配置したドライプロセス装置において,各電極(21,22)の相向い合った内側の面の少なくとも1面以上に少なくとも1枚以上の基板(3)を設置し、各電極(21,22)にほぼ平行となるように磁界(11)印加し、同一周波数の交流電力Phを各電極(21,22)にそれぞれ任意の位相差のもとで位相を同期させてブロッキングキャパシタ(7)を経由して供給し、相隣り合わせた各電極(21,22)間の間隔を各電極(21,22)間の空間を電子がほぼ無衝突で往来できる程度の距離とし、その各電極(21,22)間の空間にマグネトロン放電を生じさせることを特徴とするドライプロセス装置。
IPC (3件)：
C23F 4/00
, C23C 14/35
, C23C 16/50
