特許
J-GLOBAL ID：200903069701957054
プラズマ処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
田宮 寛祉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-235425
公開番号（公開出願番号）：特開平7-066144
出願日： 1993年08月28日
公開日（公表日）： 1995年03月10日
要約：
【要約】【目的】 プラズマ処理装置において、プラズマ生成・処理空間を形成する部分に自己清浄機構を設け、当該部分に付着した反応生成物が基板へ落下するのを防止し、かつ当該空間の内壁面を常に清浄に保つ。【構成】 プラズマ発生用容器6を備える本体容器1と、この本体容器の内部を減圧状態にする排気機構10と、本体容器の内部に反応ガスを導入するガス導入機構11と、プラズマ発生用容器内に磁場を印加すると共に高周波またはマイクロ波電力を供給して反応ガスをプラズマ化する機構(7,8,120) と、容器内に配置された基板保持機構2を備え、さらにプラズマ発生用容器と基板保持機構の間の空間の周囲に回転可能な複数の電極9を備え、これらの複数の電極によってプラズマ発生用容器の内部空間につながるプラズマ処理空間を形成するように構成される。プラズマ処理の工程において複数の電極は適宜なタイミングで反転される。
請求項（抜粋）：
プラズマ発生用容器を備える本体容器と、この本体容器の内部を減圧状態にする排気機構と、前記本体容器の内部に反応ガスを導入するガス導入機構と、前記プラズマ発生用容器内に磁場を印加すると共に高周波またはマイクロ波電力を供給して前記反応ガスをプラズマ化する機構と、前記本体容器内に配置された基板保持機構を備えるプラズマ処理装置において、前記プラズマ発生用容器と前記基板保持機構の間の空間の周囲に回転可能な複数の電極を備え、これらの複数の電極によって前記プラズマ発生用容器の内部空間につながるプラズマ処理空間が形成されることを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (5件)：
H01L 21/205
, C23C 16/50
, C23F 4/00
, H01L 21/3065
, H05H 1/46
