特許
J-GLOBAL ID：200903069734525583
半導体製造装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
諸田 英二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-206101
公開番号（公開出願番号）：特開平6-029224
出願日： 1992年07月09日
公開日（公表日）： 1994年02月04日
要約：
【要約】【目的】ロードロック室、自動搬送系及びディスク高速回転方式を有する枚葉式気相エピタキシャル成長装置において、被処理ウェーハがウェーハホルダーの正常の位置にセットされない状態で高速回転すると、エピタキシャル膜の品質の低下やウェーハ破損による稼働率の低下などを招く。これを防止し、装置の信頼性を向上する。【構成】ウェーハをウェーハホルダーに自動搬送した際に、ウェーハが正常な位置にセットされたか否かを検知する機構(例えば発光素子からのビーム光をウェーハに入射し、反射光を受光素子で検知する)と、正常な位置にセットされていない場合には、正常な位置にセットする機構(例えば、警報を発し、ウェーハを前段工程に戻し、セット動作をやり直す)とを前記成長装置に新設する。
請求項（抜粋）：
ロードロック室、自動搬送系及びディスク高速回転方式を有する枚葉式気相エピタキシャル成長装置において、ウェーハがディスクのウェーハホルダーの正常な位置にセットされたことを確認する機構を有し、かつ正常にセットされていない場合には、正常な位置にセットする機構を持つことを特徴とする半導体製造装置。
IPC (2件)：
前のページに戻る
