特許

J-GLOBAL ID：200903069735525080

不飽和基含有ポリカルボン酸樹脂の製造方法及び該樹脂を含有するホトソルダーレジスト樹脂組成物

発明者： 佐伯 周二 ,  末永 茂 ,  中岡 亮人
出願人/特許権者： 第一工業製薬株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-260829
公開番号（公開出願番号）：特開平6-080760
出願日： 1992年09月02日
公開日（公表日）： 1994年03月22日
要約：

【要約】【目的】 光硬化後の樹脂塗膜の密着性、耐熱性、耐湿性及び現像性に優れたホトソルダーレジストに好適に使用しうる新規な化合物の製造方法を提供すること。【構成】 エポキシ樹脂を(メタ)アクリル酸と反応させてエポキシ樹脂の(メタ)アクリレートを製造し、更に該(メタ)アクリレートに多塩基性カルボン酸又はその無水物を反応させて不飽和基含有ポリカルボン酸樹脂を製造するにおいて、エポキシ樹脂の前駆体として、ナフトールをアルデヒドで縮合した重量平均分子量300〜2000のポリヒドロキシナフタレン化合物を用いることを特徴とする不飽和基含有ポリカルボン酸樹脂の製造方法。

請求項（抜粋）：

エポキシ樹脂を(メタ)アクリル酸と反応させてエポキシ樹脂の(メタ)アクリレートを製造し、更に該(メタ)アクリレートに多塩基性カルボン酸又はその無水物を反応させて不飽和基含有ポリカルボン酸樹脂を製造するにおいて、エポキシ樹脂の前駆体として、ナフトール類をアルデヒドで縮合した平均分子量300〜2000のポリヒドロキシナフタレン化合物を用いることを特徴とする不飽和基含有ポリカルボン酸樹脂の製造方法。

IPC (5件)：

C08G 59/14 NHF ,  C08G 59/06 NHK ,  C08G 59/17 NHG ,  G03F 7/027 515 ,  H05K 3/28