特許
J-GLOBAL ID:200903069744279424
光学特性測定装置、膜厚測定装置、研磨終点判定装置及び研磨装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
細江 利昭
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-335740
公開番号(公開出願番号):特開2002-139309
出願日: 2000年11月02日
公開日(公表日): 2002年05月17日
要約:
【要約】【課題】 確実に1次以上の回折光を完全に取り除くことが可能な光学特性測定装置を提供する。【解決手段】 光源ユニット1の光源像位置がコンデンサーレンズ7の前方焦点近傍に位置するようにコンデンサーレンズ7を配置することによりケーラー照明光を形成し、コンデンサーレンズ7の後側焦点面近傍に配置された被検物体8の被検面Sを照明している。光源像位置近傍に開口面積固定または可変の開口絞り部材6を配置し、光源像の大きさ(照明光のNA)を制御可能にしている。開口絞り部材6によって、ケーラー照明光の開き半角が制限されることにより、被検面Sで形成される回折光の広がりも狭いものとなるので、ピンホール絞り部材10により、確実に1次以上の回折光を除去することができる。
請求項(抜粋):
物体の表面に照明光を照射し、その反射光を光検出器で測定することにより物体の光学特性を測定する装置であって、前記照明光としてケーラー照明光を用い、前記反射光を光学系により集光し、集光点位置又はその近傍にアパーチャーを設けることにより、前記物体の表面で発生する1次以上の回折光を、前記光検出器に受光される測定光から除去する機能を有するものを有し、かつ、前記ケーラー照明光の光束のNAを制御する開口面積固定又は可変のアパーチャーを有してなることを特徴とする光学特性測定装置。
IPC (6件):
G01B 11/06
, G01N 21/01
, G01N 21/27
, G01N 21/47
, G01N 21/84
, H01L 21/304 622
FI (6件):
G01B 11/06 Z
, G01N 21/01 D
, G01N 21/27 B
, G01N 21/47 Z
, G01N 21/84 E
, H01L 21/304 622 S
Fターム (41件):
2F065AA30
, 2F065CC00
, 2F065DD04
, 2F065FF42
, 2F065FF44
, 2F065FF46
, 2F065GG01
, 2F065HH13
, 2F065JJ01
, 2F065JJ09
, 2F065LL02
, 2F065LL04
, 2F065LL28
, 2F065LL30
, 2F065LL46
, 2G051BA20
, 2G051BB07
, 2G051BB09
, 2G051CA07
, 2G051CB01
, 2G051CC07
, 2G051CC15
, 2G051CC17
, 2G051EA17
, 2G059AA02
, 2G059BB08
, 2G059BB10
, 2G059DD13
, 2G059EE02
, 2G059EE12
, 2G059FF06
, 2G059GG10
, 2G059JJ01
, 2G059JJ02
, 2G059JJ11
, 2G059JJ17
, 2G059JJ22
, 2G059JJ30
, 2G059KK01
, 2G059KK03
, 2G059NN01
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