特許

J-GLOBAL ID：200903069751165850

被処理水中の過酸化水素の除去方法及び水処理装置

発明者： 内山 紀子 ,  川田 和彦
出願人/特許権者： オルガノ株式会社
代理人 (1件)： 畑中 芳実 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-205274
公開番号（公開出願番号）：特開平9-029233
出願日： 1995年07月19日
公開日（公表日）： 1997年02月04日
要約：

【要約】【目的】 超純水製造システムの純水系(1次純水系及び2次純水系)や回収系において、不純物や微粒子の溶出、混入による水質の悪化、微粒子の増加を生じさせることなく、被処理水中の過酸化水素を除去する。【構成】 過酸化水素を含む被処理水を、合成有機重合体の熱分解物である合成炭素系粒状吸着剤に接触させる。例えば、被処理水に過酸化水素の存在下で紫外線照射を行う紫外線照射装置40の後段に、紫外線照射装置40の処理水を合成炭素系粒状吸着剤に接触させる過酸化水素除去装置42を設置する。

請求項（抜粋）：

過酸化水素を含む被処理水を合成炭素系粒状吸着剤に接触させることを特徴とする被処理水中の過酸化水素の除去方法。

IPC (5件)：

C02F 1/28 ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/58 ,  C02F 1/72 101 ,  C02F 1/78

FI (5件)：

C02F 1/28 D ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/58 H ,  C02F 1/72 101 ,  C02F 1/78

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭61-283394
  
• 超純水製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-069984   出願人：オルガノ株式会社
• 特開平2-017994
  
• 特開昭61-212385