投影露光装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-174097
公開番号（公開出願番号）：特開平6-020910
出願日： 1992年07月01日
公開日（公表日）： 1994年01月28日
要約：

【要約】【目的】照明光学系を大型化することなく、従来のレチクルをそのまま使用して高解像度、大焦点深度の投影露光を実現する。【構成】レチクル8の光源側に所定間隔だけ離して回折格子状パターン7を設け、パターン7から発生する±1次回折光L1 、L2 をレチクル8に対して所定角度θだけ傾けて対称的に入射させる。回折格子状パターン7の形成領域は、レチクルパターンの照明領域程度以上の大きさに定められている。【効果】走査露光方式の投影露光装置でも変形光源法と等価な照明を実現できる。

請求項（抜粋）：

光源からの照明光をマスクに照射する照明光学系と、前記マスクに形成されたパターンを感光基板上に投影する投影光学系とを有し、前記マスクのパターンを走査露光方式で前記感光基板に露光する投影露光装置において、前記マスクのパターン、またはその共役面から光源側に所定間隔だけ離れた面、もしくは前記マスクのパターンの共役面内に配置され、かつ前記照明光が入射したとき、該入射光の少なくとも一部を前記マスクのパターンに対して所定角度だけ傾けて入射させる回折格子状パターンを備え、該回折格子状パターンの形成領域を、前記マスクのパターンの照明領域程度以上の大きさに定めたことを特徴とする投影露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 311 L , H01L 21/30 311 S

引用特許：

出願人引用 (8件)

特開平4-179958
特開平4-180612
特開平4-101148

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審査官引用 (12件)

特開平4-179958
特開平4-180612
特開平4-101148

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