特許
J-GLOBAL ID：200903069758572051

セルローストリアセテートフィルムの製造方法、及びこれを用いたセルローストリアセテートフィルム、並びにこれを用いた偏光板

発明者：
川瀬 恒雄

川瀬 恒雄 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 松浦 憲三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-027696
公開番号（公開出願番号）：特開2003-225912
出願日： 2002年02月05日
公開日（公表日）： 2003年08月12日
要約：
【要約】【課題】マット剤起因の異物発生を抑制でき、且つ、マット剤の量と添加剤の量を別々に調整できるセルローストリアセテートフィルムの製造方法を提供する。【解決手段】本発明を用いた製造装置10は、別々に調製したマット剤液と添加剤液とを第二のインラインミキサー28で混合し、この混合液とドープ14を第一のインラインミキサー22で混合し、これを流延ダイ24から流延バンド38上に押し出して流延するようにした。
請求項（抜粋）：
マット剤と添加剤を含有するセルローストリアセテートフィルムの製造方法において、マット剤液と添加剤液とを別々に調製し、該混合液をセルローストリアセテートのドープに連続的に混合し、該ドープを流延してフィルムを製造することを特徴とするセルローストリアセテートフィルムの製造方法。
IPC (9件)：
B29C 41/28 ,  C08J 5/18 CEP ,  C08K 3/00 ,  C08K 5/00 ,  C08L 1/12 ,  G02B 5/30 ,  G02F 1/1335 510 ,  B29K 1:00 ,  B29L 7:00
FI (9件)：
B29C 41/28 ,  C08J 5/18 CEP ,  C08K 3/00 ,  C08K 5/00 ,  C08L 1/12 ,  G02B 5/30 ,  G02F 1/1335 510 ,  B29K 1:00 ,  B29L 7:00
Fターム (55件)：
2H049BA06 ,  2H049BB33 ,  2H049BC22 ,  2H091FA08X ,  2H091FA08Z ,  2H091FB02 ,  2H091LA30 ,  4F071AA09 ,  4F071AB26 ,  4F071AC10 ,  4F071AC15 ,  4F071AC19 ,  4F071AE04 ,  4F071AE05 ,  4F071AE17 ,  4F071BB02 ,  4F071BC01 ,  4F205AA01 ,  4F205AB07 ,  4F205AB11 ,  4F205AB14 ,  4F205AB17 ,  4F205AC05 ,  4F205AH73 ,  4F205GA07 ,  4F205GB02 ,  4F205GC07 ,  4F205GE21 ,  4F205GF02 ,  4J002AB021 ,  4J002AB022 ,  4J002BC032 ,  4J002BD152 ,  4J002BG062 ,  4J002CG012 ,  4J002CP032 ,  4J002DE096 ,  4J002DE106 ,  4J002DE136 ,  4J002DE146 ,  4J002DE236 ,  4J002DJ006 ,  4J002DJ016 ,  4J002DJ036 ,  4J002DJ046 ,  4J002EH147 ,  4J002EJ067 ,  4J002EU177 ,  4J002EU187 ,  4J002EW047 ,  4J002FD012 ,  4J002FD016 ,  4J002FD027 ,  4J002FD057 ,  4J002GG02
引用特許：
審査官引用 (6件)
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