特許

J-GLOBAL ID：200903069778419616

表面レリーフ型ホログラムの製造方法

発明者： 富田 順二
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 三井 和彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-003854
公開番号（公開出願番号）：特開平7-210068
出願日： 1994年01月19日
公開日（公表日）： 1995年08月11日
要約：

【要約】【目的】レーザビームを走査するための光走査装置などに用いられる表面レリーフ型ホログラムの製造方法に関し、露光の際の光の損失が少なく、しかも露光量分布を任意に制御して所望の回折効率のホログラムを得ることができることを目的とする。【構成】異なる波長の光に感光する内外複数の層からなるレジスト層12,14が形成されたホログラム乾板10に、まず外側のレジスト層14が感光する波長のコヒーレントな二光束により外側のレジスト層14に干渉稿を露光してそれを現像し、次に現像された後の外側のレジスト層14をマスクとして、外側のレジスト層14を透過せず内側のレジスト層12が感光する波長の光束によって内側のレジスト層12を露光した後、外側のレジスト層14を除去し、内側のレジスト層12を現像してホログラムパターンを得る。

請求項（抜粋）：

異なる波長の光に感光する内外複数の層からなるレジスト層(12,14)が形成されたホログラム乾板(10)に、まず外側のレジスト層(14)が感光する波長のコヒーレントな二光束により外側のレジスト層(14)に干渉稿を露光してそれを現像し、次に現像された後の外側のレジスト層(14)をマスクとして、外側のレジスト層(14)を透過せず内側のレジスト層(12)が感光する波長の光束によって内側のレジスト層(12)を露光した後、外側のレジスト層(14)を除去し、内側のレジスト層(12)を現像してホログラムパターンを得ることを特徴とする表面レリーフ型ホログラムの製造方法。

IPC (3件)：

G03H 1/04 ,  G02B 5/30 ,  G03H 1/18

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 特開昭60-230650
  

審査官引用 (2件)

• 特開昭60-230650
  
• 特開昭60-230650