特許

J-GLOBAL ID：200903069783036229

荷電ビーム描画データ作成方法およびその作成装置

発明者： 森泉 幸一 ,  上山 欣也 ,  菅野 誠 ,  田岡 弘展 ,  中尾 博臣 ,  山崎 一弘
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 高田 守 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-105765
公開番号（公開出願番号）：特開平8-306608
出願日： 1995年04月28日
公開日（公表日）： 1996年11月22日
要約：

【要約】【目的】 本発明は、半導体デバイスの設計レイアウトデータから荷電ビーム描画装置用の高品質な描画データを作成する荷電ビーム描画データ作成方法を提供する。【構成】 荷電ビーム描画データ作成方法が、CD領域自動分離工程、三角形部分離工程、CD値自動抽出工程、基本図形分割工程、微小描画データ修正工程、面取り部分自動修正工程の1または2以上の工程を備える方法である。

請求項（抜粋）：

高寸法精度が要求されるCD領域を事前に分離するCD領域自動分離工程を含むことを特徴とする荷電ビーム描画データ作成方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G06F 17/50

FI (2件)：

H01L 21/30 541 J ,  G06F 15/60 658 Z

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭59-119831
  
• 特開昭57-012520