ミクロスフェア

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：津軽進 , 宮崎昭彦 , 笛田秀仙
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-518767
公開番号（公開出願番号）：特表2008-504950
出願日： 2005年06月24日
公開日（公表日）： 2008年02月21日
要約：

構成材料を含む生産流体(23)のミクロスフェアを製造するシステムである。このシステムは、受取流体(11)を保持するための貯留層(1)を有する。このシステムはさらに、生産流体を前記受取流体に噴射するための少なくとも1つのノズル(21)を持つ噴射モジュール(2)を備える。生産流体は0.01から0.5%に及ぶ構成材料の濃度を含む。最終的なミクロスフェアの成分は生産流体には溶解しない。受取流体/空気インタフェースの表面よりも下に置かれるインクジェットヘッドはノズルとして用いられる。この構成において、インクジェットされた液滴は空気-流体インタフェースを通過せずに、受取流体に直接噴射される。

請求項（抜粋）：

構成材料を含む生産流体のミクロスフェアを製造するシステムであり、 -受取流体を保持するための貯留層、及び -前記生産流体を前記受取流体に噴射するための少なくとも1つのノズルを持つ噴射モジュール、を有するシステムにおいて、前記生産流体は0.01%から5%におよぶ前記構成材料の濃度を含んでいるシステム。

IPC (5件)：

B01J 19/00 , B01J 19/12 , B01J 13/04 , A61K 49/00 , A61K 9/16

FI (5件)：

B01J19/00 N , B01J19/12 H , B01J13/02 A , A61K49/00 C , A61K9/16

Fターム (39件)：

4C076AA61 , 4C076AA81 , 4C085HH07 , 4C085HH09 , 4C085KA03 , 4C085KA11 , 4C085KA29 , 4C085KB20 , 4C085LL01 , 4G005AA01 , 4G005BA20 , 4G005CA02 , 4G005DC07W , 4G005DC07X , 4G005DD04Z , 4G005DD05Z , 4G005DD07Z , 4G005DD08Z , 4G005DD12Z , 4G005DD27Z , 4G005DD52Z , 4G005DD57Z , 4G005DD75Z , 4G005EA03 , 4G075AA13 , 4G075AA27 , 4G075AA32 , 4G075BB02 , 4G075BB08 , 4G075CA32 , 4G075CA33 , 4G075CA57 , 4G075DA02 , 4G075DA18 , 4G075EA01 , 4G075EA06 , 4G075EB01 , 4G075EB31 , 4G075EC01

引用特許：

審査官引用 (5件)

マイクロカプセルの製造方法並びにそれにより得られるマイクロカプセル及びその製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-047760 出願人：セイコーエプソン株式会社
ナノカプセルの製造法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-224121 出願人：川島嘉明, シンテツクス(ユー・エス・エイ)インコーポレイテツド
特開昭60-007931

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