特許
J-GLOBAL ID:200903069793633551

複合型キャビティ反射変調レーザシステム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 岡田 次生 (外2名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-527411
公開番号(公開出願番号):特表2003-510855
出願日: 2000年07月20日
公開日(公表日): 2003年03月18日
要約:
【要約】【課題】 本発明は、レーザ後方ファセットの位相誘導有効反射変調によるレーザ光の周波数変調を提供する複合キャビティ光学反射変調レーザシステムに関連する。【解決手段】 このシステムは、複合キャビティ変調システムを形成するために受動導波部と共に集積化された単一モード利得結合DFBレーザを含む。導波管は、電圧制御された屈折率変調についての量子スターク効果(Stark effect)を利用するために逆バイアスされる多重量子井戸領域を含む。位相変調光は、レーザ内部で生成した光を干渉させるためにレーザに帰還されて、複合キャビティから生成された出力光を生成する。干渉効果は、出力光の周波数変調を生じる後方レーザ・ファセットの有効な複合反射の変調を生じる。所望に応じて周波数変調された光(FM)は、付加的狭バンド光フィルタ(例えばマッハ・ゼンダー干渉計)の使用によって強度変調(IM)光に変換されてもよい。
請求項(抜粋):
複合型キャビティ反射変調レーザシステムであって、 前方レーザ・ファセットおよび後方レーザ・ファセットによって定められる第1のキャビティを有する単一波長半導体レーザと、 前方エレメント・ファセットおよび後方エレメント・ファセットによって定められる第2のキャビティを有する位相変調エレメントと、を含み、前記第1および第2のキャビティが前方レーザ・ファセットおよび後方エレメント・ファセットによって定められる複合キャビティを形成し、 前記位相変調エレメントは、前記第1のキャビティにおいて生成された光を受光し、位相変調された光を生成するために前記第2のキャビティにおける前記光の位相変調を提供し、位相変調された光が第1のキャビティにフィードバックされ、それにより前記第1および第2のキャビティから光の干渉が提供され、前記後方レーザ・ファセットの有効な複合の反射変調を生じ、出力光の周波数変調が提供される、複合型キャビティ反射変調レーザシステム。
IPC (5件):
H01S 5/026 616 ,  H01S 5/026 618 ,  G02F 1/017 503 ,  H01S 5/12 ,  H01S 5/343
FI (5件):
H01S 5/026 616 ,  H01S 5/026 618 ,  G02F 1/017 503 ,  H01S 5/12 ,  H01S 5/343
Fターム (18件):
2H079AA02 ,  2H079AA12 ,  2H079BA03 ,  2H079CA04 ,  2H079DA16 ,  2H079EA07 ,  2H079EB04 ,  2H079HA11 ,  2H079KA11 ,  2H079KA18 ,  5F073AA64 ,  5F073AA67 ,  5F073AB21 ,  5F073AB25 ,  5F073BA01 ,  5F073CA12 ,  5F073EA12 ,  5F073EA29

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