特許

J-GLOBAL ID：200903069797400101

グレインサイズがコントロールされたポリシリコン薄膜およびその製法

発明者： 山本 憲治
出願人/特許権者： 鐘淵化学工業株式会社
代理人 (1件)： 曽々木 太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-101898
公開番号（公開出願番号）：特開平5-275335
出願日： 1992年03月28日
公開日（公表日）： 1993年10月22日
要約：

【要約】【目的】 安価なガラス基板や金属基板上に形成されているにもかかわらず、グレインサイズがコントロールされてなるポリシリコン薄膜およびその製法を提供する。【構成】 本発明のポリシリコン薄膜は、ガラス基板上に形成され、その基板との界面に100Å以下のサイズのSiO<SB>x</SB>(0<x≦2)の粒子状生成物を核として形成されてなるものである。また、本発明のポリシリコン薄膜の製法は、ガラス基板上に100Å以下のサイズのSiO<SB>x</SB>(0<x≦2)の粒子状生成物を形成し、しかるのち、それを核としてポリシリコン薄膜を形成するものである。

請求項（抜粋）：

基板上に形成されてなるポリシリコン薄膜であって、その基板との界面に100Å以下のサイズのSiO<SB>x</SB>(0<x≦2)の粒子状生成物を有することを特徴とするポリシリコン薄膜。

IPC (6件)：

H01L 21/20 ,  C04B 41/85 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/28 301 ,  H01L 29/784 ,  H01L 31/04

FI (2件)：

H01L 29/78 311 F ,  H01L 31/04 X

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開平3-273639