流量制御弁、流体切替弁、半導体装置の製造装置および製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：伊東忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-190604
公開番号（公開出願番号）：特開平6-147329
出願日： 1993年07月30日
公開日（公表日）： 1994年05月27日
要約：

【要約】【目的】複数の流体を、コンダクタンスを一定に維持しながら切り替える流体切替弁を提供することを目的とし、【構成】弁箱中に形成された流路中に、流路を遮断するように回動自在な弁体を設け、前記弁体の形状を、任意の回転角において流路を遮断するような形状に形成し、前記弁体上に複数の溝を相互に離間して、各々所定の弧長にわたり、溝の断面積が一の端から他の端に向かって変化するように形成し、その際前記複数の溝の断面積を、その総和が実質的に一定に維持されるように形成する。

請求項（抜粋）：

流体を導入する入口と、前記流体を排出する出口とを有し、前記入口と前記出口との間に連通し、内壁で画成され、前記流体を前記入口から前記出口に通過させる流路を形成された弁箱と;前記流路中に、回動軸の回りで回動自在に設けられ、前記弁箱の内壁に対応した外面により画成され、前記流体が前記流路を通って前記入口から前記出口へ通過するのを阻止する弁体とよりなる流量制御弁において:前記弁体の外面は、前記弁体の前記回動軸の回りにおける任意の回転角において、前記流体が前記入口から前記出口へ通過するのを阻止するような形状に形成されており;前記弁体は、前記弁体外面に沿って、前記弁体を前記回動軸の方向から見た場合に所定の弧長にわたって延在するように形成された溝を有し;前記溝は、深さと幅の少なくとも一方が、一方の端から他方の端に向かって変化するように形成されていることを特徴とする流量制御弁。

IPC (3件)：

F16K 1/16 , G05D 16/00 , H01L 21/205

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平2-051670
特開昭63-268244
特開昭63-268244

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