特許

J-GLOBAL ID：200903069808162097

外観検査方法

発明者： 筒井 英史 ,  阿部 隆
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (2件)： 上柳 雅誉 ,  宮坂 一彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-293632
公開番号（公開出願番号）：特開2008-111695
出願日： 2006年10月30日
公開日（公表日）： 2008年05月15日
要約：

【課題】カエリの大きさを定量的に把握するとともに、効率的に外観検査を実施することが可能な外観検査方法を提供する。【解決手段】外観検査方法は、基板Pの貫通部を検査する外観検査方法であって、貫通部に光を照射し、基板Pに対して垂直の方向から貫通部の画像を取得する画像取得工程と、画像から貫通部の輪郭の座標を複数測定し、第1座標群とする第1座標群測定工程と、第1座標群から第1近似曲線16を演算する第1近似曲線演算工程と、貫通部の輪郭の座標のうち、第1近似曲線16から所定の距離以内の座標を複数測定し、第2座標群とする第2座標群測定工程と、第2座標群から第2近似曲線17を演算する第2近似曲線演算工程と、第2近似曲線17と、貫通部の画像とを比較して、欠陥を検出する欠陥検出工程とを、備えている。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

基板の貫通部を検査する外観検査方法であって、 前記貫通部に光を照射し、前記基板に対して垂直の方向から前記貫通部の画像を取得する画像取得工程と、 前記画像から前記貫通部の輪郭の座標を複数測定し、第1座標群とする第1座標群測定工程と、 前記第1座標群から第1近似曲線を演算する第1近似曲線演算工程と、 前記貫通部の輪郭の座標のうち、前記第1近似曲線から所定の距離以内の座標を複数測定し、第2座標群とする第2座標群測定工程と、 前記第2座標群から第2近似曲線を演算する第2近似曲線演算工程と、 前記第2近似曲線と、前記貫通部の画像とを比較して、欠陥を検出する欠陥検出工程とを、備えていることを特徴とする外観検査方法。

IPC (1件)：

G01N 21/954

FI (1件)：

G01N21/954 Z

Fターム (6件)：

2G051AA90 ,  2G051AB20 ,  2G051CA04 ,  2G051CB02 ,  2G051DA06 ,  2G051EA20