特許

J-GLOBAL ID：200903069814111992

水素ガス検出装置及びその製造方法

発明者： 米倉 義道 ,  呉屋 真之 ,  能丸 裕次 ,  奥田 晃久 ,  奥山 澄雄 ,  熊谷 智宣 ,  奥山 克郎
出願人/特許権者： 三菱重工業株式会社
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-079490
公開番号（公開出願番号）：特開2003-279522
出願日： 2002年03月20日
公開日（公表日）： 2003年10月02日
要約：

【要約】【課題】 不活性ガス雰囲気や真空中などの無酸素環境下であっても高精度かつ迅速かつ容易に水素ガスの漏洩を検出することができる水素ガス検出装置及びその製造方法を提供する。【解決手段】 無酸素環境下および有酸素環境下のいずれにおいても水素ガスの濃度を検出する水素ガス検出装置であって、絶縁性基板310と、この絶縁性基板の一方側の面上に設けられたPdを主成分とする感知薄膜30,31と、この感知薄膜の上に設けられた大気中で酸化され難い金属元素を主成分とする酸化抵抗薄膜90,91とを具備する。

請求項（抜粋）：

無酸素環境下および有酸素環境下のいずれにおいても水素ガスの濃度を検出する水素ガス検出装置であって、絶縁性基板と、この絶縁性基板の一方側の面上に設けられたPdを主成分とする感知薄膜と、この感知薄膜の上に設けられた大気中で酸化され難い金属元素を主成分とする酸化抵抗薄膜と、を具備することを特徴とする水素ガス検出装置。

IPC (2件)：

G01N 27/12 ,  G01N 27/22

FI (3件)：

G01N 27/12 B ,  G01N 27/12 A ,  G01N 27/22 A

Fターム (38件)：

2G046AA05 ,  2G046BA01 ,  2G046BA09 ,  2G046BB02 ,  2G046BB04 ,  2G046BC05 ,  2G046BC09 ,  2G046BE03 ,  2G046BE08 ,  2G046BF01 ,  2G046DB05 ,  2G046DC14 ,  2G046EA02 ,  2G046EA04 ,  2G046EA09 ,  2G046EA11 ,  2G046FB00 ,  2G046FE00 ,  2G046FE02 ,  2G046FE03 ,  2G046FE10 ,  2G046FE11 ,  2G046FE25 ,  2G046FE29 ,  2G046FE31 ,  2G046FE38 ,  2G046FE44 ,  2G060AA01 ,  2G060AA20 ,  2G060AB03 ,  2G060AE19 ,  2G060AF10 ,  2G060AG11 ,  2G060AG15 ,  2G060BB09 ,  2G060HA02 ,  2G060HC10 ,  2G060JA01

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 水素ガスセンサ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-114629   出願人：科学技術振興事業団

審査官引用 (1件)

• 水素ガスセンサ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-114629   出願人：科学技術振興事業団