特許

J-GLOBAL ID：200903069840817895

導電性パターン

発明者： 川村 浩一 ,  加納 丈嘉
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 中島 淳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-152426
公開番号（公開出願番号）：特開2003-345038
出願日： 2002年05月27日
公開日（公表日）： 2003年12月03日
要約：

【要約】【課題】 製造適性に優れ、且つ、耐久性と導電安定性とに優れた導電性パターンを提供する。【解決手段】 親水性グラフト鎖が存在する表面を有する支持体上に、光活性基を有する疎水性化合物を含有する組成物を接触させ、画像様にエネルギーを付与して、該疎水性化合物を固定化して親/疎水性領域を形成し、該親水性領域に導電性材料を吸着させてなることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

親水性グラフト鎖が存在する表面を有する支持体上に、光活性基を有する疎水性化合物を含有する組成物を接触させ、画像様にエネルギーを付与して、該疎水性化合物を固定化して親/疎水性領域を形成し、該親水性領域に導電性材料を吸着させてなる導電性パターン。

IPC (6件)：

G03F 7/38 512 ,  G03F 7/012 501 ,  G03F 7/021 501 ,  G03F 7/11 503 ,  H05K 3/10 ,  H05K 3/18

FI (6件)：

G03F 7/38 512 ,  G03F 7/012 501 ,  G03F 7/021 501 ,  G03F 7/11 503 ,  H05K 3/10 C ,  H05K 3/18 C

Fターム (32件)：

2H025AA13 ,  2H025AA19 ,  2H025AB15 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BA03 ,  2H025BA08 ,  2H025BD40 ,  2H025BD43 ,  2H025BH04 ,  2H025DA36 ,  2H025FA39 ,  2H096AA26 ,  2H096AA27 ,  2H096BA02 ,  2H096BA03 ,  2H096CA05 ,  2H096FA05 ,  5E343AA02 ,  5E343BB23 ,  5E343BB24 ,  5E343BB25 ,  5E343BB71 ,  5E343CC22 ,  5E343CC52 ,  5E343CC71 ,  5E343DD33 ,  5E343ER04 ,  5E343ER18 ,  5E343ER42 ,  5E343GG06 ,  5E343GG11