投影露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大森聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-243664
公開番号（公開出願番号）：特開平6-097040
出願日： 1992年09月11日
公開日（公表日）： 1994年04月08日
要約：

【要約】【目的】感光材がポジタイプかネガタイプかに応じて、投影光学系の球面収差の形状を最適化する。【構成】露光光の波長をλ、投影光学系4の開口数をNAとして、ポジレジストを使用するとき、10割の開口に相当する球面収差量をΔS10として、7割の開口に相当する球面収差量をΔS7とするとき、0<ΔS10<+5λ/NA<SP></SP><SP>2</SP> 且つ-2.5λ/NA<SP>2</SP> <ΔS7<0の条件を満足させる。ネガレジストを使用するときには、その球面収差量の符号を反転する。

請求項（抜粋）：

マスクパターンを露光光で照明する照明光学系と、所定の開口数を持ち前記マスクパターンを感光材が塗布された基板上に投影する投影光学系とを有する投影露光装置において、前記露光光の波長をλ、前記投影光学系の開口数をNAとして、前記感光材がポジタイプであるとき、前記マスクパターンを前記基板上へ投影する際の前記投影光学系の縦の球面収差に関して、10割の開口に相当する球面収差量をΔS<SB>10</SB>として、7割の開口に相当する球面収差量をΔS<SB>7</SB> とするとき、0<ΔS<SB>10</SB><+5λ/NA<SP>2</SP> (1)-2.5λ/NA<SP>2</SP> <ΔS<SB>7</SB> <0 (2)の条件を満足する事を特徴とする投影露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 501 , G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 311 N , H01L 21/30 301 G

引用特許：

出願人引用 (3件)

特開平2-278811
特開平2-234411
特開平2-166719

審査官引用 (1件)

特開平2-278811

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