特許
J-GLOBAL ID：200903069865174964
低級アルキレンオキシドの精製
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
秋沢 政光 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-358100
公開番号（公開出願番号）：特開平5-194453
出願日： 1991年12月27日
公開日（公表日）： 1993年08月03日
要約：
【要約】【構成】 不純な低級アルキレンオキシドを塩基性イオン交換樹脂と接触させ、ギ酸メチル含有量が低下したアルキレンオキシドを分離することから成る、プロピレンオキシドのような低級アルキレンオキシドからのギ酸メチルの分離方法が開示される。【効果】 本質的にギ酸メチルを含まない低級アルキレンオキシドが回収され、塩基性イオン交換樹脂の再生が可能である。
請求項（抜粋）：
低級アルキレンオキシドとギ酸メチル汚染物の混合物を塩基性イオン交換樹脂と接触させ、その後ギ酸メチル含有量が減少した低級アルキレンオキシドを分離することから成る、汚染量のギ酸メチルを含む低級アルキレンオキシドの精製方法。
IPC (2件)：
引用特許：
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