特許
J-GLOBAL ID：200903069873429360
露光方法及び露光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-036750
公開番号（公開出願番号）：特開平7-245258
出願日： 1994年03月08日
公開日（公表日）： 1995年09月19日
要約：
【要約】【目的】従来の露光波長及び光学系をほとんど変えること無しに、投影光学系の解像限界を超える高解像のパターンを形成することのできる露光方法及び露光装置を提供し、更に、投影光学系によってできる高解像のパターンのコントラストが高くなるようにする。【構成】被投影原版(レチクル)のパターンを投影光学系によって所定の感光素材上に投影する投影露光方法において、感光素材として潜像濃度及び潜像反応濃度が入射光強度に対して非線型な感度特性を持つものを用い、露光光の偏光方向が、像面上で形成されるパターンの長手方向に対して像面上において平行であるようにし、感光素材上での光強度分布の異なる複数回の露光を行なう。
請求項（抜粋）：
被投影原版のパターンを投影光学系によって所定の感光素材上に投影する投影露光方法において、前記感光素材として潜像反応濃度が入射光強度に対して非線型な感度特性を持つものを用い、露光光の偏光方向が像面上に形成されるパターンの長手方向に対して像面上において平行であるように露光し、感光素材上での光強度分布が異なる複数回の露光を行うことにより、投影光学系の解像限界を超える高解像のパターンの形成を可能とすることを特徴とする露光方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
