金属蒸気レーザー装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：猪股祥晃
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-259142
公開番号（公開出願番号）：特開平5-102572
出願日： 1991年10月07日
公開日（公表日）： 1993年04月23日
要約：

【要約】【目的】サイラトロンの代りに半導体素子を用いて、長時間の安定運転を可能にし、かつ電源の長寿命化を計る。【構成】金属蒸気レーザー管1に直列に第1のコンデンサ2および第2のコンデンサ3を接続する。この第1のコンデンサ2と第2のコンデンサ3の中点V2 に磁気スイッチ4を接続する。この磁気スイッチ4と金属蒸気レーザー管1の1端と並列に直列接続した複数の半導体高速スイッチング素子5a,5b,5cを接続する。これらの半導体高速スイッチング素子5a,5b,5cをトリガーするトリガー回路10を接続する。また、第1のコンデンサ2と第2のコンデンサ3を充電する直流高圧電源11を接続する。

請求項（抜粋）：

金属蒸気レーザー管と、このレーザー管に直列接続された第1および第2のコンデンサと、この第1および第2のコンデンサの中点に接続された磁気スイッチと、この磁気スイッチに接続された少なくとも1個の半導体高速スイッチング素子と、この半導体高速スイッチング素子をトリガーするトリガー回路と、前記コンデンサに電荷を充電する直流高圧電源とを具備したことを特徴とする金属蒸気レーザー装置。

IPC (2件)：

H01S 3/097 , H01S 3/134

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平3-101283
特開平3-016414
特開昭64-028981

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