特許

J-GLOBAL ID：200903069896419710

高嵩密度粒状洗剤の製造方法および高嵩密度粒状洗剤粒子

発明者： 谷本 均 ,  山下 博之 ,  山星 浩樹 ,  高名 周治
出願人/特許権者： 花王株式会社
代理人 (1件)： 古谷 馨 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-256063
公開番号（公開出願番号）：特開平9-100500
出願日： 1995年10月03日
公開日（公表日）： 1997年04月15日
要約：

【要約】【課題】 高嵩密度粒状洗剤に結晶性珪酸塩を安定に配合でき、しかもその粒状洗剤を使用した際の溶残物の発生を抑制できる高嵩密度粒状洗剤の製造方法を提供する。【解決手段】 アニオン界面活性剤を含有する噴霧乾燥粒子を破砕し造粒することにより嵩密度が0.65g/cm3 以上の高嵩密度粒状洗剤を製造する際に、前記噴霧乾燥粒子中の揮発分を1.5〜5%とし、且つ前記噴霧乾燥粒子の破砕及び/又は造粒時に、当該噴霧乾燥粒子にポリオキシアルキレンアルキルエーテルと結晶性珪酸塩粉末とを添加する。

請求項（抜粋）：

非せっけん性のアニオン界面活性剤を含有する噴霧乾燥粒子を破砕し造粒することにより嵩密度が0.65g/cm3 以上の高嵩密度粒状洗剤を製造する方法において、前記噴霧乾燥粒子中の揮発分が1.5〜5%であり、且つ前記噴霧乾燥粒子の破砕及び/又は造粒時に、当該噴霧乾燥粒子にポリオキシアルキレンアルキルエーテルと結晶性珪酸塩粉末とを添加することを特徴とする高嵩密度粒状洗剤の製造方法。

IPC (5件)：

C11D 11/02 ,  C11D 10/02 ,  C11D 17/06 ,  C11D 1:72 ,  C11D 3:08

FI (3件)：

C11D 11/02 ,  C11D 10/02 ,  C11D 17/06

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特開平2-178398
  
• 特開平4-036398
  
• 高密度粒状洗浄剤組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-242999   出願人：花王株式会社

審査官引用 (2件)

• 特開平2-178398
  
• 特開平4-036398