特許
J-GLOBAL ID：200903069923639573
金属薄膜型磁気記録媒体およびその製造法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
安田 敏雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-303549
公開番号（公開出願番号）：特開平5-143972
出願日： 1991年11月19日
公開日（公表日）： 1993年06月11日
要約：
【要約】【目的】 耐久性に優れ、ひいては高密度記録化の可能な金属薄膜型磁気記録媒体を提供する。【構成】 非磁性基板1 の上にCr下地層2 、磁気記録層3 およびC層4 がスパッタリングにより同順序で成膜されている。前記C層4 は、成膜後にN2 ガス雰囲気中で逆スパッタされ、又はC層の成膜に際して、ArとN2 との混合ガス雰囲気中でバイアススパッタにより成膜されたものである。このため、C層4 の少なくとも表面層にはN原子がC原子中に混入したものとなっている。
請求項（抜粋）：
非磁性基板の上にCr下地層、磁気記録層およびC層が同順序で積層形成された金属薄膜型磁気記録媒体において、前記C層は少なくともその表面層にN原子が混入していることを特徴とする金属薄膜型磁気記録媒体。
IPC (2件)：
前のページに戻る
