特許

J-GLOBAL ID：200903069929495220

チアゾール類縁化合物及び皮膚外用剤

発明者： 斉田 勝 ,  井上 寿孝 ,  田上 義洋 ,  別府 孝一 ,  下園 雄治 ,  迎 瑞恵 ,  太田 重雄
出願人/特許権者： 久光製薬株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-069031
公開番号（公開出願番号）：特開平5-222015
出願日： 1992年02月17日
公開日（公表日）： 1993年08月31日
要約：

【要約】【目的】 新規なチアゾール類縁化合物の合成及びチロシナーゼ活性に対する阻害剤並びに美白化粧料としての皮膚外用剤に関する。【構成】 一般式(I)で示されるチアゾール類縁化合物。〔式中、環Xは無置換、または(式中、R1 は水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基または低級アルコキシ基を意味する。)、または(式中、R2 は水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基またはハロゲン原子を意味する。)を、Yはアミノ残基、または(式中、nは0〜5の整数、AはO、SまたはNHを、R3 はOHまたは(式中、R4 は水素原子または低級アルキル基を、R5 は水素原子または低級アルキル基を意味する。〕

請求項（抜粋）：

下記一般式(I)で示されるチアゾール類縁化合物。〔式中、環Xは無置換、または(式中、R1 は水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基または低級アルコキシ基を意味する。)、または(式中、R2 は水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基またはハロゲン原子を意味する。)を、Yはアミノ残基、または(式中、nは0〜5の整数、AはO、SまたはNHを、R3 はOHまたは(式中、R4 は水素原子または低級アルキル基を、R5 は水素原子または低級アルキル基を意味する。〕

IPC (4件)：

C07D277/82 ,  A61K 7/00 ,  C07D277/60 ,  C07D277/74