特許
J-GLOBAL ID:200903069932338128

新規ベンゾジフラノン化合物およびそれを用いる疎水性繊維材料の染色または捺染方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 久保山 隆 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-187627
公開番号(公開出願番号):特開平8-048893
出願日: 1994年08月09日
公開日(公表日): 1996年02月20日
要約:
【要約】【目的】 良好な諸堅牢度、特に後加工後等における優れた洗濯堅牢度を有し、染色力、ビルドアップ正等の染色特性に優れる、ポリエステル繊維材料等の疎水性繊維材料を染色あるいは捺染するに好適な新規なベンゾジフラノン化合物を提供する。【構成】 下記式(I)【化1】(式中、Aは置換されていてもよいフェニル基またはナフチル基、Bは置換されてもよいチエニル基またはベンゾチエニル基を表わす。)で示されるベンゾジフラノン化合物およびそれを用いて疎水性繊維を染色または捺染する方法。
請求項(抜粋):
一般式(I)【化1】〔式中、Aは、非置換若しくは少なくとも一つの基で置換されたフェニル基(ここに、置換された基としては、ニトロ基、ハロゲン原子、置換されていてもよい低級アルキル基若しくは低級アルコキシ基、フェニル基、低級アルコキシフェニル基、フェノキシ基、低級アルコキシカルボニル基、置換されていてもよいカルバモイル基若しくはスルファモイル基、メルカプト基、置換されていてもよい低級アルケニル基、低級アルキルチオ基、アリールチオ基、アミノ基、アシルアミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、アシル基、低級アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アシロキシ基または水酸基を表わす。)、一般式(II)【化2】4 アルキル基を表わす。〕を表わし、R1 は、メチレン基、または水酸基、C1〜C4 アルコキシ基若しくはC1 〜C4 アルキルカルボニルオキシ基で置換されていてもよい直鎖若しくは分岐のC2 〜C5 アルキレン基を表わし、X2 は、-はC1 〜C4 アルキル基を表わす。〕、は前記と同じ意味を表わす。〕で示される二価基、または直接結合を表わし、E1 およびE2 は、同一または相異なり、水素原子またはC1 〜C4 アルキル基を表わし、Lは、0または1〜3の整数を表わし、Qは、置換されていてもよい5、6または7員の飽和若しくは不飽和の複素環残基を表わす。)で示される1〜3個の置換基により置換されているフェニル基、またはナフチル基を表わし、Bは非置換チエニル基、非置換ベンゾチエニル基、または少なくとも一つの基で置換されたチエニル基若しくはベンゾチエニル基(ここに、置換された基としては、ニトロ基、ハロゲン原子、置換されていてもよい低級アルキル基若しくは低級アルコキシ基、フェニル基、低級アルコキシフェニル基、フェノキシ基、チエニル基、ピリジニル基、シアノ基、低級アルコキシカルボニル基、置換されていてもよいカルバモイル基若しくはスルファモイル基、メルカプト基、置換されていてもよいアルケニル基、低級アルキルチオ基、アリールチオ基、アシルアミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、アシル基、低級アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基またはアシロキシ基を表わす。)を表わす。〕で示されるベンゾジフラノン化合物。
IPC (3件):
C09B 57/00 ,  C07D493/04 101 ,  D06P 1/16

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