特許
J-GLOBAL ID：200903069958847152
ラミネータ
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岡田 和秀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-326747
公開番号（公開出願番号）：特開平7-178743
出願日： 1993年12月24日
公開日（公表日）： 1995年07月18日
要約：
【要約】【目的】基板とフィルムとの間に気泡を入り込ませない状態のラミネートを、生産性の向上を図りながら実現する。【構成】基板1にドライレジストフィルム3を熱圧着する一対のヒートローラー4,4′のうち一方のヒートローラー4を駆動するサーボモーター6にその回転位置を検出するエンコーダ7を設ける。基板1の前端を検出する基板検出センサー5と、基板通過位置ごとの所定のラミネート速度を予め記憶している記憶装置8と、サーボモーター6の回転速度を制御する速度制御装置9を設ける。速度制御装置9は、エンコーダ7によって得られる基板通過位置のデータにより記憶装置8を検索し、その基板通過位置に対応したラミネート速度を呼び出してサーボモーター6を制御する。これにより、基板通過位置に応じて気泡を生じさせない適切な速度で基板1を搬送しながらラミネートしていく。
請求項（抜粋）：
フィルムを基板に熱圧着するヒートローラーと、このヒートローラーを変速自在に駆動回転する駆動装置と、前記ヒートローラーの回転位置を検出する手段と、基板を前記ヒートローラーに搬送する手段と、基板の前端を検出する手段と、基板通過位置ごとの所定のラミネート速度を記憶している記憶装置と、この記憶装置に記憶されているデータに基づいて前記駆動装置の回転速度を制御しラミネート速度を基板通過位置に応じた速度に調整する速度制御装置とを備えたことを特徴とするラミネータ。
IPC (4件)：
B29C 41/52
, B29C 65/02
, B32B 31/20
, B29L 9:00
