特許

J-GLOBAL ID：200903069964349644

フォトレジストフィルム

発明者： 日向 淳悦 ,  佐藤 弘章
出願人/特許権者： 日本合成化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-330902
公開番号（公開出願番号）：特開平11-149156
出願日： 1997年11月14日
公開日（公表日）： 1999年06月02日
要約：

【要約】【課題】 感度、解像度、密着性、耐エッチング性、レジストパターンの形成性に非常に優れたフォトレジストフィルムを提供すること。【解決手段】 支持体フィルム(I)/感光性樹脂組成物層(II)/保護フィルム(III)からなるフォトレジストフィルムにおいて、支持体フィルム(I)の厚みが10〜30μmで、かつ、表面粗度(Ra)が0.001〜0.015μmであるフォトレジストフィルム。

請求項（抜粋）：

支持体フィルム(I)/感光性樹脂組成物層(II)/保護フィルム(III)からなるフォトレジストフィルムにおいて、支持体フィルム(I)の厚みが10〜30μmで、かつ、表面粗度(Ra)が0.001〜0.015μmであることを特徴とするフォトレジストフィルム。

IPC (5件)：

G03F 7/004 512 ,  G03F 7/027 501 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/032 ,  G03F 7/09 501

FI (5件)：

G03F 7/004 512 ,  G03F 7/027 501 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/032 ,  G03F 7/09 501