特許
J-GLOBAL ID:200903069969758852

ビスフェノールモノエステルの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 久保山 隆 ,  中山 亨 ,  榎本 雅之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-368954
公開番号(公開出願番号):特開2006-176419
出願日: 2004年12月21日
公開日(公表日): 2006年07月06日
要約:
【課題】 ビスフェノールモノエステル(I)を製造時における水洗の分液性が常に良好なビスフェノールモノエステル(I)の製造方法を提供する。【解決手段】 気相部が酸素と不活性ガスで充填された反応槽中にて、式(II)(式中、R1は炭素数2〜4のアルケニル基等を表す。)で表されるカルボン酸、式(III)(式中、R2は、水素原子、炭素数1〜11のアルキル基等を表す。R3〜R6は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基を表す。)で表されるビスフェノール類、及び脱ハロゲン化水素剤を混合したのち、さらにハロゲン化剤を混合させ、水洗して、式(I)(式中、R1〜R6は、前記と同じ意味を表す。)で表されるビスフェノールモノエステルを製造する方法であって、気相部の酸素濃度を0.1〜10容量%に調整するビスフェノールモノエステルの製造方法。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
気相部が酸素と不活性ガスで充填された反応槽中にて、式(II)
IPC (4件):
C07C 67/08 ,  C07C 69/16 ,  C07C 69/28 ,  C07C 69/54
FI (4件):
C07C67/08 ,  C07C69/16 ,  C07C69/28 ,  C07C69/54 B
Fターム (12件):
4H006AA02 ,  4H006AC48 ,  4H006AD16 ,  4H006BB31 ,  4H006BB60 ,  4H006BB61 ,  4H006BC13 ,  4H006BC33 ,  4H006BC37 ,  4H006BJ50 ,  4H006BN30 ,  4H006KA06
引用特許:
出願人引用 (3件)
  • 特開昭58-17979号公報(実施例1)
  • 特開昭63-5053号公報(実施例1)
  • 特開平4-264051号公報(実施例1)
審査官引用 (3件)
  • 特開平1-168643
  • 特開平2-273643
  • 特開昭63-005053

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