特許

J-GLOBAL ID：200903069973974390

基板の光照射式熱処理装置

発明者： 橋詰 彰夫 ,  高橋 光和
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 間宮 武雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-104173
公開番号（公開出願番号）：特開平9-270390
出願日： 1996年03月29日
公開日（公表日）： 1997年10月14日
要約：

【要約】【課題】 熱処理中に基板から蒸発した物質が熱処理炉の内壁面に付着して内壁面に曇りを生じることを防止し、基板の処理枚数が増えた場合における回後作業も簡単で時間がかからず、装置の稼働効率の向上が図られる装置を提供する。【解決手段】 熱処理炉10内に、平面視で基板Wと同等もしくはそれ以上の大きさを有する光透過性部材32を、熱処理炉の天井部内壁面と基板の上面との間に介在するように挿脱可能に配設した。

請求項（抜粋）：

基板の搬入及び搬出を行なうための開口を有し、基板を枚葉で収容する熱処理炉と、この熱処理炉内において基板を水平姿勢に支持する基板支持手段と、この基板支持手段に支持された基板の少なくとも上面に対向して配設された光照射加熱手段とを備えた基板の光照射式熱処理装置において、前記熱処理炉内に、平面視で基板と同等もしくはそれ以上の大きさを有する光透過性部材を、熱処理炉の天井部内壁面と前記基板支持手段に支持された基板の上面との間に介在するように挿脱自在に配設したことを特徴とする、基板の光照射式熱処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/26 ,  H01L 21/22 501 ,  H01L 21/31

FI (3件)：

H01L 21/26 L ,  H01L 21/22 501 L ,  H01L 21/31 E

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開平3-291940
  
• 特開昭61-129834