特許

J-GLOBAL ID：200903069990836502

フッ素系環状化合物、フッ素系重合性単量体、フッ素系高分子化合物、並びにそれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法

発明者： 角田 真一 ,  小森谷 治彦 ,  前田 一彦
出願人/特許権者： セントラル硝子株式会社
代理人 (1件)： 西 義之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-272269
公開番号（公開出願番号）：特開2005-029527
出願日： 2003年07月09日
公開日（公表日）： 2005年02月03日
要約：

【課題】 本発明は、新規なフッ素系環状化合物、フッ素系重合性単量体、フッ素系高分子化合物を提供し、紫外線領域から近赤外線領域に至るまでの幅広い波長領域で高い透明性を有し、かつ基板への高い密着性及び成膜性、高いエッチング耐性、高ガラス転移点を併せ持ったレジスト材料、それを用いたパターン形成方法を提供することにある。【解決手段】 ノルボルナジエン類とヘキサフルオロアセトンから誘導されるオキサシクロブタン構造を有し、酸不安定性機能を併せ持つ新規なフッ素系環状化合物を見出した。このフッ素系環状化合物又はその誘導体を用いて重合又は共重合したフッ素系高分子化合物を用いることにより、優れたレジスト材料及びそれを用いた微細パターン形成方法を見出した。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

一般式(1)で表されるフッ素系環状化合物。

IPC (8件)：

C07D305/14 ,  C08F12/22 ,  C08F16/26 ,  C08F20/10 ,  C08F32/02 ,  G03F7/039 ,  G03F7/075 ,  H01L21/027

FI (8件)：

C07D305/14 ,  C08F12/22 ,  C08F16/26 ,  C08F20/10 ,  C08F32/02 ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/075 511 ,  H01L21/30 502R

Fターム (28件)：

2H025AA06 ,  2H025AA10 ,  2H025AA14 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB33 ,  2H025CB41 ,  4C048TT08 ,  4C048UU10 ,  4C048XX01 ,  4C048XX04 ,  4J100AE09P ,  4J100AL26P ,  4J100AR11P ,  4J100BA02P ,  4J100BB18P ,  4J100BC08P ,  4J100BC53P ,  4J100CA01 ,  4J100CA03 ,  4J100JA38