特許

J-GLOBAL ID：200903069994104328

スピン処理装置

発明者： 山崎 貴弘
出願人/特許権者： 芝浦メカトロニクス株式会社
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-277667
公開番号（公開出願番号）：特開2000-105076
出願日： 1998年09月30日
公開日（公表日）： 2000年04月11日
要約：

【要約】【課題】 この発明は液晶用のガラス基板を迅速に乾燥処理できるようにしたスピン処理装置を提供することにある。【解決手段】 ガラス基板16を回転駆動される回転テーブル7に保持して処理するスピン処理装置において、上記回転テーブルの中心部分には導入孔17が形成され、上面の上記導入孔よりも径方向外方の部分には回転テーブルが回転することでその下面側の気体を上記導入孔から上面側へ導入し上記被処理物の下面の周縁方向へ流す複数の羽根18が設けられていることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

被処理物を回転駆動される回転テーブルに保持して処理するスピン処理装置において、上記回転テーブルの中心部分には導入孔が形成され、上面の上記導入孔よりも径方向外方の部分には回転テーブルが回転することでその下面側の気体を上記導入孔から上面側へ導入し上記被処理物の下面の周縁方向へ流す複数の羽根が設けられていることを特徴とするスピン処理装置。

IPC (3件)：

F26B 11/18 ,  H01L 21/304 651 ,  H01L 21/304

FI (3件)：

F26B 11/18 ,  H01L 21/304 651 B ,  H01L 21/304 651 L

Fターム (16件)：

3L113AA04 ,  3L113AB08 ,  3L113AC28 ,  3L113AC45 ,  3L113AC48 ,  3L113AC63 ,  3L113AC69 ,  3L113AC72 ,  3L113AC73 ,  3L113AC74 ,  3L113AC76 ,  3L113AC90 ,  3L113BA34 ,  3L113DA02 ,  3L113DA04 ,  3L113DA10