特許
J-GLOBAL ID:200903069997139416
スキャタロメトリを使用するライン・プロファイルの非対称測定
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
廣江 武典
, 宇野 健一
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-569662
公開番号(公開出願番号):特表2004-529330
出願日: 2002年02月28日
公開日(公表日): 2004年09月24日
要約:
超小型電子デバイスの超小型電子機能アレーへと光を方向づけることと、アレーから後方へ散乱される、1つまたは複数の反射角及び1つまたは複数の波長の双方または何れかを含む光を検出することと、反射余角からのデータを調査する、またはモデル比較を実行して後方散乱光の1つまたは複数の特性を比較することを含む、超小型電子デバイスにおけるライン・プロファイルの非対称性を測定する方法及び装置。
請求項(抜粋):
超小型電子デバイスにおけるライン・プロファイルの非対称性の測定方法であって、
超小型電子デバイスの超小型電子機能アレーへと光を方向づけるステップと、
1つまたは複数の機能を含むアレーから後方へ散乱される、1つまたは複数の反射角及び1つまたは複数の波長より成るグループから選択された光を検出するステップと、
反射の余角からのデータを調査すること及びモデル比較を実行することより成るグループから選択されたオペレーションを実行して後方散乱光の1つまたは複数の特性を比較するステップとを含む方法。
IPC (4件):
G01B11/24
, G01N21/956
, H01L21/027
, H01L21/66
FI (4件):
G01B11/24 D
, G01N21/956 A
, H01L21/66 J
, H01L21/30 502V
Fターム (29件):
2F065AA52
, 2F065BB02
, 2F065FF00
, 2F065FF42
, 2F065FF49
, 2F065GG04
, 2F065HH12
, 2F065JJ08
, 2F065LL42
, 2F065QQ25
, 2F065QQ29
, 2F065SS13
, 2F065UU03
, 2F065UU08
, 2G051AA51
, 2G051AB20
, 2G051AC21
, 2G051BA08
, 2G051BA10
, 2G051BA11
, 2G051CA01
, 2G051CB05
, 2G051EA14
, 2G051EC03
, 4M106AA01
, 4M106CA39
, 4M106DB01
, 4M106DJ18
, 4M106DJ38
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