特許
J-GLOBAL ID：200903070004581281
現像液の自動希釈装置
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-047937
公開番号（公開出願番号）：特開平5-216241
出願日： 1992年02月04日
公開日（公表日）： 1993年08月27日
要約：
【要約】【構成】ポジ型レジストの現像原液を超純水で希釈するに際し、調合槽の液量の重量を測定するロードセルと、電位差測定による自動滴定装置を備え、シーケンスコントローラーにより制御することを特徴とする現像液の自動希釈装置【効果】テトラメチアンモニウムハイドロオキサイド(TMAH)濃度の誤差範囲が 0.002重量% 以内の高精度に制御することができ、高精度のレジストパターンの現像を行うことができるようになると共に、半導体工場などの現像液を使用する側で目的とする濃度の現像液を自動的に且つ迅速に得られることになるので、容器への充填作業や、運搬・管理等の費用が削減される。
請求項（抜粋）：
ポジ型レジストの現像原液を超純水で希釈するに際し、調合槽の液量の重量を測定するロードセルと、電位差測定による自動滴定装置を備え、シーケンスコントローラーにより制御することを特徴とする現像液の自動希釈装置
IPC (2件)：
G03F 7/30 501
, H01L 21/027
